手繪澆鑄時代的光刻膠

光刻膠產(chǎn)業(yè)的起源可以追溯到20世紀初期的手繪澆鑄時代。當(dāng)時的制程工藝較為落后，光刻膠采用人工手繪在硅片上，接著再進行玻璃或者金屬澆鑄，這樣就形成了完整的微電路。該膠料有時會被稱為液體印刷墨水。此時代光刻膠的分辨率通常都在毫米或者小于毫米級別。

半導(dǎo)體工業(yè)的興起

20世紀50年代，半導(dǎo)體工業(yè)得到了快速的發(fā)展，從而推動了光刻膠的更新?lián)Q代。在此時期，出現(xiàn)了一種材料良性化的光刻膠，可以增加分辨率，達到了0.5微米以下。這樣的產(chǎn)物通常是半導(dǎo)體芯片和平面面陣列，采用的是直接描畫方法。這種膠料的分辨率約為0.25微米。

納米時代的光刻膠

隨著集成電路領(lǐng)域的發(fā)展，人們對于光刻膠的要求也越發(fā)高了，越來越小的芯片和更復(fù)雜的電子元器件需要更精細并且更穩(wěn)定的制造工藝。1980年代，產(chǎn)生了具有熒光特性的共聚物光刻膠。這種膠料能夠在紫外光源的照射后自然地發(fā)出熒光信號，感光材料得以被更好地篩選出來。1995年，光刻機在制造DRAM存儲器上實現(xiàn)了200納米的微處理器以及45納米的DRAM存儲器，這也標志著納米時代的光刻膠正式到來。

高科技時代的光刻膠

隨著互聯(lián)網(wǎng)和大數(shù)據(jù)等高科技行業(yè)的激發(fā)發(fā)展，快速可靠的制程變得越發(fā)重要。為了滿足市場的需求，光刻膠制造商開始研發(fā)新型材料，因此全新材料像氟硅重氮烷（FSA）就誕生了。這個膠料比傳統(tǒng)的重氮烷膠料更耐用，支持分辨率為10納米。這種膠料配合新一代的曝光機，可以在微處理器中獲得更快速，更穩(wěn)定的產(chǎn)量，并且更加高質(zhì)量。

總結(jié)

光刻膠在半導(dǎo)體工業(yè)中發(fā)揮了極為重要的作用，由于光刻技術(shù)的發(fā)展和電子行業(yè)的擴展，這種材料也逐漸發(fā)展出了一系列新型材料和制程。