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光刻膠,又稱(chēng)為光阻材料,是電子元件制造中的一種重要材料。它的主要作用是將某一層薄膜完全或局部地遮蓋,從而實(shí)現(xiàn)線路分割、電極接觸等功能。光刻膠通過(guò)紫外光的作用,使膠層中的化學(xué)鍵發(fā)生斷裂,產(chǎn)生溶劑的效果。這種材料具有很好的耐蝕性、耐熱性和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)光刻版、電路板、液晶顯示器、集成電路等電子元器件,下面就隨廣東華創(chuàng)電子材料的小編一起來(lái)詳細(xì)了解光刻膠:
根據(jù)材料的不同,光刻膠可以分為正膠和負(fù)膠。正膠是指在曝光過(guò)程中,膠層被曝光的區(qū)域失去了溶解的能力,而曝光區(qū)域外仍然保留著溶解能力。負(fù)膠則相反,曝光后能夠溶解的部分是曝光過(guò)程中被照亮的部分。此外,還有混合型光刻膠,它是由正負(fù)膠兩種材料復(fù)合而成。
光刻膠的制備與材料的種類(lèi)有關(guān)。正膠是由光敏劑、溶劑和樹(shù)脂單體組成的,其中光敏劑是決定正膠光敏靈敏度和曝光后斑點(diǎn)質(zhì)量的關(guān)鍵因素。而負(fù)膠的制備與正膠大致相同,但是需要在樹(shù)脂單體中加入蒸發(fā)性物質(zhì),以便在曝光后使交聯(lián)度低的膠層失去溶解性。
光刻膠在微電子制造中有著廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景。例如,在電路板制造中,光刻膠被用于印刷回路;在集成電路的制造中,則可以通過(guò)光刻膠清洗、激光切割等工藝制備電極系。在微納加工領(lǐng)域,光刻膠也有被用于制備光刻模板、生物芯片等。
目前,國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)仍然處于起步階段,市場(chǎng)需求與供給存在較大的差距,未來(lái)發(fā)展的主要方向是實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新、提高品質(zhì)、拓展應(yīng)用。為了應(yīng)對(duì)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng),國(guó)內(nèi)廠商應(yīng)該加快技術(shù)研發(fā)步伐,注重產(chǎn)品質(zhì)量的提升,開(kāi)拓新的應(yīng)用領(lǐng)域,提高產(chǎn)品的附加值。
光刻膠作為一種重要的電子元器件材料,其影響力不斷擴(kuò)大。從光刻膠的定義、種類(lèi)、制備、應(yīng)用到未來(lái)的發(fā)展方向,本文華創(chuàng)材料的小編進(jìn)行了詳細(xì)的介紹和闡述。相信隨著技術(shù)的推廣和應(yīng)用的拓展,光刻膠在電子元器件制造領(lǐng)域?qū)⒂兄鼮閺V泛的應(yīng)用前景。